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堿鎳電鍍工藝

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堿鎳電鍍工藝
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產(chǎn)品介紹

堿鎳電鍍工藝

一、特長:

本工藝鍍層底面均勻,厚度一致,特別適合管狀、深孔狀盲孔件等鐵、銅制品直上鎳、滾鎳、鍍銅打底之用,能提高后鍍層的防腐及鹽霧測試,縮短后鍍層的電鍍時間,節(jié)約成本。

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二、鍍液組成及操作條件:

?

組成及條件

標(biāo)準(zhǔn)

硫酸鎳:

30-40g/L

堿鎳A劑

75-100ml/L

堿鎳B劑

50-80ml/L

氨水

5ml/L

溫度

常溫

PH

8-10

電流密度

0.1-3A/dm2

電壓

5-12V

三、消耗量:

硫酸鎳:

200-500g/千安培小時

堿鎳A劑

100ml/千安培小時

堿鎳B劑

50ml/千安培小時

氨水

5ml/千安培小時

四、注意事項:

1、硫酸鎳不能太高,過高會影響深鍍能力,當(dāng)硫酸鎳升高時, 堿鎳A劑的用量亦隨著增大。

2、堿鎳B劑量少時,走位不好,過多時鍍層偏暗色。當(dāng)堿鎳B劑過量時可提高硫酸鎳的用量,每次增加硫酸鎳的 ???量都按比例提高堿鎳A劑的用量,同時補(bǔ)充氨水5-10ml/L。

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Plating Additives 電鍍添加劑

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3、本工藝不能帶入Fe3+、Fe3+、Zn2+、Cu2+、No3-、Cr3+、Cr6+否則不能出光及走位差,要重新開缸。

4、當(dāng)堿鎳A劑過量時,導(dǎo)致走位不好、鎳的上鍍較慢、較薄,只要添加硫酸鎳即可以達(dá)到原來標(biāo)準(zhǔn)。

5、每次補(bǔ)充硫酸鎳時,需同時補(bǔ)加堿鎳A劑。

6、平時維護(hù)以補(bǔ)硫酸鎳及堿鎳A劑為主。堿鎳B劑是走位劑,日常使用時補(bǔ)充每千安培小時40-60ml/L,當(dāng)堿 ???B劑過量時陽極會發(fā)黑及發(fā)生自發(fā)反應(yīng),此時需及時補(bǔ)充硫酸鎳及堿鎳A劑。

7、氨水作用是用于調(diào)PH值及促進(jìn)鎳的走位,當(dāng)深孔不夠時,可補(bǔ)充氨水。

8、A劑為硫酸鎳鉻合劑、堿鎳B劑為走位劑。

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